字体
关灯
护眼
   存书签 书架管理 返回目录
    【作者吾叫大师提示:如果章节内容错乱的话,关掉阅读模式,关闭广告拦截即可正常】

    绝不是,适的考核是有必的。

    范晓明一边车,一边听很不是滋味。

    14纳米、7纳米、5纳米,再到3纳米,比内,整整先进了四代。

    在,世界上先进的芯片制程工艺是3纳米。

    他们这人,及相关的高校、机构直接跳的三代,直接研旧3纳米芯片制程工艺。

    EUV光源的问题,清研制的步辐摄光源虽极其耗

    光刻机的三难题,EUV光源、双工件台镜头,其双工件台的难题已经解决。

    目内,控的是制造28纳米及28纳米上制程工艺的芯片。

    14纳米制程工艺的芯片产,相关设备高度依赖进口。

    “这是徐正平校长妥协的条件,毕竟的条件太苛刻了,不上课,不考试……了,校长给苏哲科研方由,相应的果,或者通术委员场考核。”牛光辉补充

    “们,分了吧!四个科目我了,信息算怎,苏哲跟本有接受相关的训练,们这是在坑人。”包正义愤愤不平的

释。

    两人聊完苏哲的,聊内EUV光刻机及五纳米芯片制程工艺的相关话题。

    相关的设备刻蚀机、薄膜沉寂设备等等已解决,的光刻机了。

    他觉,突破离束抛光技术的间快了,怕苏哲有进展,靠他们,再来两轮差不功了。

    他知的专业研旧光镜头的团队了五个,再加上一不知名的,参入EUV光镜头研旧的团队很

    是光镜头了。

    EUV光刻机的制造不再是难题,这他们实了弯追赶,掌握控的3纳米芯片制程工艺。

    包正义点点头,:“这个比较合理,我这个苏哲接受的。”

    相,上岭镜头研旧走在了列,一旦突破离束抛光技术,EUV光刻机光镜头的难题将到解决。

    至14纳米一内目法制造。
上一章 目录 下一章